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捕捉變化，開(kāi)拓未來(lái)
通過(guò)科學(xué)技術(shù)的發(fā)展和未來(lái)的人才培養(yǎng)為社會(huì)做貢獻(xiàn)

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主營(yíng)產(chǎn)品：實(shí)驗(yàn)室儀器；測(cè)量?jī)x器；環(huán)境檢測(cè)儀器；計(jì)量器具；傳感器の專(zhuān)門(mén)商社池田屋！

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ORC歐阿希電子線路板直接曝光設(shè)備

ORC歐阿希電子線路板直接曝光設(shè)備

產(chǎn)品型號(hào)：RDi?80

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

ORC歐阿希電子線路板直接曝光設(shè)備 ORC歐阿希電子線路板直接曝光設(shè)備

詳細(xì)介紹

ORC歐阿希電子線路板直接曝光設(shè)備
ORC歐阿希電子線路板直接曝光設(shè)備

曝光裝置：RDi系列

BG RDI-系列 02

標(biāo)題01

用于柔性電路板的批量生產(chǎn)

需要**對(duì)準(zhǔn)的柔性電路板和觸摸面板
細(xì)間距柔性基板、COF

內(nèi)容1

電影

電影

播放產(chǎn)品相關(guān)視頻

電影-RDI

RDi-10 Duo 用于電路形成

用于電路形成 RDi-10 Duo

曝光裝置：RDi-10 Duo

特征

通過(guò)支持雙線流程（250mm 寬度 x 2 同時(shí)曝光），使生產(chǎn)率加倍
10μm高分辨率
我們獨(dú)特的技術(shù)支持 20m 級(jí)別的長(zhǎng)電路圖案化。
引入的效果已在現(xiàn)場(chǎng)得到證實(shí)，例如使高難度產(chǎn)品成為可能并提高產(chǎn)量。

2線連續(xù)曝光

基材：FCCL 250mm寬卷
L/S=15/15μm

基材：FCCL 250mm寬滾
蝕布線形成、曲線形成能力、PAD匹配

用于電路形成的
RDi-MP/RDi-MP Duo

用于電路形成 RDi-MP/RDi-MP Duo

曝光裝置：RDi-MP

曝光裝置：RDi-MP Duo

特征

采用FDi光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行精細(xì)圖案形成。配備曝光模式切換功能（*參考FDi）
RDi-MP Duo 支持卷基材雙向流動(dòng)

RDi-80 用于焊料形成

用于焊料形成 RDi-80

曝光裝置：RDi-80

特征

配備UV燈作為光源，兼容阻焊劑和感光覆蓋膜的感光波長(zhǎng)。

產(chǎn)品規(guī)格

規(guī)格

	光源	有效曝光尺寸	基材寬度	解決	吞吐量	總體疊加精度
RDi-10 雙核	半導(dǎo)體激光器	635x520毫米	250mm 寬 x 2 個(gè)水槽（500mm 寬 x 1 個(gè)水槽也可以）	10μm長(zhǎng)/秒	38秒/平面@30mJ MD:500mm	6μm
RDi-MP	半導(dǎo)體激光器	515x260毫米	250mm（*其他要求可協(xié)商）	4μm長(zhǎng)/秒	45秒/平面@55mJ MD：515mm	3.5μm
RDi-MP 二重奏	半導(dǎo)體激光器	515x590毫米	250mm寬x 2個(gè)主水槽（*其他要求可協(xié)商）	4μm長(zhǎng)/秒	44秒/平面@50mJ MD:500mm	3.5μm
RDi?80	紫外線燈	635x520毫米	250/500毫米	30μm L/S / Φ80μm	58秒/平面@150mJ 69秒/平面@200mJ MD:610mm	7μm

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