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捕捉變化,開拓未來
通過科學技術(shù)的發(fā)展和未來的人才培養(yǎng)為社會做貢獻
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ORC歐阿希
池田屋實業(yè)ORC歐阿希 曝光設(shè)備RDi系列
產(chǎn)品型號:RDi-10 雙核
產(chǎn)品簡介:
池田屋實業(yè)ORC歐阿希 曝光設(shè)備RDi系列 池田屋實業(yè)ORC歐阿希 曝光設(shè)備RDi系列
詳細介紹
池田屋實業(yè)ORC歐阿希 曝光設(shè)備RDi系列
池田屋實業(yè)ORC歐阿希 曝光設(shè)備RDi系列
用于柔性電路板的批量生產(chǎn)需要**對準的柔性電路板和觸摸面板
細間距柔性基板、COF
電影
電影
播放產(chǎn)品相關(guān)視頻
RDi-10 Duo 用于電路形成
用于電路形成 RDi-10 Duo
特征
通過支持雙線流程(250mm 寬度 x 2 同時曝光),使生產(chǎn)率加倍
10μm高分辨率
我們獨特的技術(shù)支持 20m 級別的長電路圖案化。
引入的效果已在現(xiàn)場得到證實,例如使高難度產(chǎn)品成為可能并提高產(chǎn)量。
2線連續(xù)曝光
基材:FCCL 250mm寬卷
L/S=15/15μm
基材:FCCL 250mm寬滾
蝕布線形成、曲線形成能力、PAD匹配
用于電路形成的
RDi-MP/RDi-MP Duo
用于電路形成 RDi-MP/RDi-MP Duo
特征
采用FDi光學系統(tǒng)進行精細圖案形成。配備曝光模式切換功能(*參考FDi)
RDi-MP Duo 支持卷基材雙向流動
RDi-80 用于焊料形成
用于焊料形成 RDi-80
特征
配備UV燈作為光源,兼容阻焊劑和感光覆蓋膜的感光波長。
產(chǎn)品規(guī)格
規(guī)格
光源有效曝光尺寸基材寬度解決吞吐量總體疊加精度
RDi-10 雙核 半導(dǎo)體激光器 635x520毫米 250mm 寬 x 2 個水槽(500mm 寬 x 1 個水槽也可以) 10μm長/秒 38秒/平面@30mJ MD:500mm 6μm
RDi-MP 半導(dǎo)體激光器 515x260毫米 250mm(*其他要求可協(xié)商) 4μm長/秒 45秒/平面@55mJ MD:515mm 3.5μm
RDi-MP 二重奏 半導(dǎo)體激光器 515x590毫米 250mm寬x 2個主水槽(*其他要求可協(xié)商) 4μm長/秒 44秒/平面@50mJ MD:500mm 3.5μm
RDi?80 紫外線燈 635x520毫米 250/500毫米 30μm L/S / Φ80μm 58秒/平面@150mJ 69秒/平面@200mJ MD:610mm 7μm