原廠Osaka Vacuum大阪真空通用分子泵 TGkine4200MI-B
反應生成物對策型TGkineMI-B系列
該系列針對反應產物容易積聚的設備,采用了我們獨特的隔熱結構/自加熱機制,顯著降低了反應產物積聚率。
對包括目標區(qū)域在內的整個周圍區(qū)域進行加熱的方法。它無法被有效地使用。 ?目標區(qū)域外的熱效應
除了通過外部加熱器提高溫度外,還有效利用泵內部與吸入氣體產生的摩擦熱,有效提高與氣體接觸部分的溫度 并抑制外部加熱器的輸出,提高節(jié)能效果! ! - *大限度地減少對主要部件的熱影響并減少對泵的損壞。 ?維持*佳溫度,防止排氣管內生成產物。
目的